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沿着弯转轨道行进时会发出电磁辐射。用正常人能听懂的语言描述则是当电子以光速在环形轨道中运动时，总是会沿着切线方向辐射光子。

    这些辐射的电磁波其实具备高亮度、宽波段的特点。

    尤其是宽波段，从红外到可见光，再到紫外线、极紫外乃至x射线等等，都能通过控制粒子在环形带内旋转的速度给制造出来。

    所以理论上来说，只需要控制一定波长的激光cao控位于储存环内的电子束，让其旋转起来之后，电子理论上就会被束缚在激光所形成的光学势井中，成为稳定的微聚束。

    当这个微聚束在激光波长范围内的时候，就能辐射出高强度的窄带宽的相干光源。

    根据之前的理论，这种光就具备平均功率高、重复频率高、波长范围广的特点。

    阿斯麦最新一代光刻机所使用的euv光源也包含在内，当然也包扩迭代前的uv跟duv光源。

    除此之外，还有光的导入线路，各种零部件的排布等等。

    在乔泽设计中，这台大型光刻机需要一个周长约五十米的大型多层储存环，在激光束的cao作下，最多能够同步辐射出二十八条不同波长跟功率的光源，通过不同的通路进入其他部分开始对晶圆进行微雕。

    为了让这篇论文看起来更像真的，乔泽觉得还需要花些时间，设计了一个能同时cao控二十八条光源的智能控制系统框架。算是为这款压根暂时还没在这个世界上出现过的设备作了软件方面的适配。

    这也导致这篇论文完成的时间有些长了，昨晚就构思了一部分，然后早上开始写，一直到晚上十点，第一篇论文都还没完全写完。