第53章 王总工授课（1） (第2/5页)

    “王总工，我们在收到制造图纸的第一时间，已经对其进行了详细的分析研究，但是还存在一些疑惑。

    要不然我带您去我们新划分的研究中心，您给我们研究人员和工程师做一个详细的讲解吧。”张大能答道。

    此时光研究所新的研究中心已经囊括了龙国在“光源”领域最顶尖的研究者。

    他们面对王昊哲所给的图纸，已经在进行激烈的讨论，制造图纸中涉及的相关原理和分析已经有些超出他们现在的认知。

    看到此状的张大能打破僵持的场面“各位，王总工来了，先让他给你们讲解一下制造图纸的相关内容，或许会更有帮助。”

    在场的时候研究人员都安静了下来。

    “各位既然，张所长已经说明白了，那我就给大家讲一下其具体的设计理念。

    光刻的原理是在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶，再用光线（一般是紫外光、深紫外光、极紫外光）透过掩模照射在硅片表面，被光线照射到的光刻胶会发生反应。

    我们这次将要实现‘超紫外光’这一光源将能极大的提升相关反应速度。

    但是我们还需要解决三个问题：

    第一个问题，真空环境约束。

    因为光蚀刻系统制造的精细程度取决于很多因素。

    但是实现跨越性进步的有效方法是降低使用光源的波长。

    从光刻机起源到现在几十年来，光刻机厂