第404章 博浪需要被重点针对 (第4/9页)

是非常非常简单的，就——用光把图案投射到硅片上。

    对，号称现代工业皇冠的光刻机其原理就是这么简单。

    无非是在具体实现上有两个很大的难点：

    如何让图案尽可能小；

    以及如何让生产效率尽可能高。

    现在的技术来说，图案要小到一平方毫米里面有差不多上亿个晶体管，嗯……一平方毫米等于0.000001平方米，零太多，换一下，百万分之一平方米。

    即：不到针尖那么大的地方要装上亿晶体管，甚至过亿晶体管这样子。

    生产效率现在已经可以高到一小时出产2~300片300毫米(12寸)晶圆。

    每片晶圆理论上可以切割700~1000片芯片，只是不同芯片的面积和晶圆边缘损耗以及良率让现在一片晶圆的合格产出一般在四五百片左右，未来肯定是会更高。

    而先进光刻机比如ASML的产品能保证7×24小时工作，全年停机时间不超过3%。

    此外……光头一次只能曝光大概是26×33毫米即橡皮那么大的区域，一片12寸晶圆大概是70659平方毫米的面积，曝光一遍要移动上百乃至几百次。

    由此可以想象光刻机台的移动速度有多快，再加上每次移动的定位要精确到几十纳米——头发丝的几万分之一。

    所以光刻如此简单的原理，配合这么精细的工艺要求，考验的真不全是物理学、化学、技术工程学等方面，还有资金量级。

    让精密动作到令人发指的机器稳定工作，是工程学上的巨大挑战，也需要海量的必要尝试以获得经验。

    事实上，研究资金的投入量终究会是有限的。

    因为后来哪怕最贵的ASML EUV光刻机，