第423章 先准备，万一用得上 (第2/9页)

V光刻生产工艺，设备进驻与调试时间还算理想。

    现在公开资料表示，EUV光刻生产工艺的设备进驻与调试时间长达恐怖的一年起步。

    而且一年多时间只是完成调试能试生产，产能爬坡要多久，只有天知道。

    因为目前全球都没有稳定的EUV光刻工艺。

    根据后世经验，EUV光刻工艺投入正式使用最早最早要等到2019年，从这个角度来说，星空半导体有时间有可能追赶上去。

    因为星空半导体背后有‘财大气粗’的博浪，博浪有温良这个对高新科技自主化有十分疯狂追求，不计成本投入的总经理。

    毕竟……EUV是个有充分理论验证支撑的应用科技攀爬。

    没有从零开始一说。

    要解决的问题是材料上的全新尝试、组件上的自主化、同种理论上的优化……反正，应用科技领域完全独立必不可能，专利的交叉问题多得吓死人。

    为了应对无可避免的知识产权官司，林鸿早已牵头展开了博浪全球法务体系，投入甚大。

    回头说EUV这个东西，最早开展相关研究的时间可以追溯到80年代，是小日那边的NTT，之后是尼康和日立方面在91年展开研发。

    而在更晚一些的97年，英特尔感觉到了挑战193nm光源的的巨大难度，决定合作愚公移山，于是说服了当局，以公司形式发起了EUV LLC这样一个合作组织。

    由英特尔和美能源牵头，集合了摩托、AMD、劳伦斯利弗莫尔、劳伦斯伯克利桑迪亚三个实验室，投资两亿美元集合几百位顶级科学家，从理论上验证EUV可能存在的技术问题。