第414章 你到底为什么回国？ (第2/4页)

  黄思白没有想到，徐佑对于这些不属于他领域上的学术问题，竟然会问得这么仔细。

    徐佑的专业程度，甚至并不亚于EUV光刻机项目组的那些科研人员。

    “黄工，这里掩模衍射谱的计算，是通过傅里叶变换得到的吧？”徐佑指着资料中的一处问道。

    “是的，徐教授，当掩模厚度较小，掩模图形尺寸较大时，掩模衍射谱可以采用薄掩模模型计算。通过傅里叶变换，得到掩模Kirchhoff远场衍射的结果……”

    “黄工，这里是不是用到了厄米对称性的性质？”

    “没错。为了进一步提高Hopkins成像模型的计算效率，可以根据TCC矩阵的厄米对称性对其进行奇异值分解，并将这个公式截断……”

    为了解答徐佑提出的一个个问题，黄思白已经累得满头大汗了。

    这种劳累感，并不是因为体力的消耗，而是脑力的大量消耗。

    而徐佑却非常享受这种学习的过程，脸上满是轻松和喜悦的神色。

    现在的徐佑，根本不需要进入到深度学习状态，就可以轻松的解决各种科研问题。

    深度学习状态，对于徐佑来说，只是相当于一个加速器而已。

    这时，黄思白擦了擦额头上的汗水，尝试着问道：

    “徐教授，我可以了解一些龙芯G1的资料吗？这对我们的光刻机研究，会有一定帮助的。”

    徐佑闻言一愣道：“龙芯G1？这款芯片并没有使用到EUV光刻机的技术啊。”

    黄思