重生千禧大玩家 第912节 (第5/5页)

436nm的g－line汞灯光源为主，只适用于5μm以上制程。

    之后出现了365nm的i－line汞灯光源的第二代光刻机，制程精度来到了350到500nm。

    这两代都只能算是接近式光刻机，到了第三代扫描投影式光刻机，才实现了跨越式的突破，把最小工艺推进至150到250nm。

    他们生产的65nmarf干式光刻机，算是第四代，也就是步进式投影式光刻机，制程工艺最高可以推进到65nm，想要更上一层——

    就得用到浸入技术，也就是让镜头和硅片之间的空间浸泡于液体之中，在此基础上，就有了四代半的浸入步进式投影式光刻机。

    本来，逻辑跟asml这些国际一线的光刻机厂商，就只剩arfi这么个半代差距。

    但euv光刻机一出现，又把这个差距拉到了至少1.5代，而且这个技术差距，不像制程工艺那么好追，是整个产业链的全面落后。

    “不是我急，陆总，一旦euv预生产成功的话，英特尔、三星、台积电也许不出三五年，就能得到euv光刻机的生产线……”

    尹志尧话里无不透着焦虑。

    “尹教授，这台euv，asml、三星、英特尔、蔡司、台积电它们花了多久才研制出来？”陆飞透过面罩的玻璃，直直看去。

    “从林本坚提出浸润式微影技术的理论，到现在，大概十三、十四年。”

    梁孟松站出来回答。

    “对嘛，这不就结了。”

    陆飞拍了拍尹志尧的肩膀，“euv集欧美日韩这么多全球最顶尖的半导体公司和人才，也要花13年的时间，何况是我们呢！”